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預計2028年矽溶膠銷售額将達到404.83百萬美元

發表日期 : 2023-02-22 返回列表

矽溶膠是一(yī)種性能優良的納米材料,是無定形二氧化矽顆粒在水或有機溶劑中(zhōng)均勻分(fēn)散形成的膠體(tǐ)溶液,是用途極爲廣泛的無機高分(fēn)子材料。高純矽溶膠主要指電子級矽溶膠,由于其應用的特殊性,一(yī)般來說高純矽溶膠的純度在99.9999%左右或至少99.999%。

高純矽溶膠行業目前現狀分(fēn)析

根據QYR的調研,全球矽溶膠的産量在2021年超過90萬噸,中(zhōng)國矽溶膠的産量占據約60%的市場份額。但是在高端的高純矽溶膠領域,中(zhōng)國本地企業占據的市場份額低于5%,這說明中(zhōng)國在矽溶膠行業呈現典型的大(dà)而不強的發展趨勢。扶桑化學,諾力昂,格雷斯和日産化學是該行業的四大(dà)巨頭。就高端的高純矽溶膠的市場而言,中(zhōng)國本地企業市場份額微乎其微,這和中(zhōng)國下(xià)遊CMP抛光液的市場份額息息相關。

就全球高純矽溶膠的應用來看,中(zhōng)國CMP漿料與國外(wài)企業存在5-10年的差距,就整個産業鏈來看,從高純矽溶膠到CMP漿料中(zhōng)國本地制造商(shāng)的能力依然十分(fēn)孱弱,與世界先進水平存在很大(dà)差距。目前,中(zhōng)國市場上存在很多小(xiǎo)型的矽溶膠生(shēng)産商(shāng),由于沒有掌握核心技術在加上無序競争,中(zhōng)國整體(tǐ)矽溶膠市場呈現産能利用率不高的特點。在未來,控制總量優化布局、加強創新提高産品精細化率、培育發展企業知(zhī)名品牌以及構築循環經濟推進責任關懷,是“十四五”期間行業要完成的主要任務。推進優化産業結構,升級傳統産業是無機矽化物(wù)行業未來五年規劃發展的首要任務。對于高端的高純矽溶膠,是中(zhōng)國矽溶膠行業發展所必須進行突破的一(yī)個領域。

就整個高純矽溶膠市場而言,目前其銷量已經超過10萬噸,占據了約10%的市場份額。2021年全球高純矽溶膠市場銷售額達到了307.44百萬美元,預計2028年将達到404.83百萬美元,年複合增長率(CAGR)爲4.34%(2022-2028)。

高純矽溶膠生(shēng)産商(shāng)主要集中(zhōng)于日本和美國,由于全球大(dà)部分(fēn)CMP漿料企業均集中(zhōng)這兩個地區,因此市場集中(zhōng)度很高。其中(zhōng),默克的産品主要自用,而扶桑化學在對外(wài)銷售的市場上占據了相當大(dà)的市場份額,基本上領先的日本CMP漿料制造商(shāng)的供應商(shāng)均是扶桑化學。

雖然諾力昂和格雷斯都是矽溶膠主要制造商(shāng),但是高純矽溶膠領域依然難以媲美扶桑化學。在未來,如果CMP抛光液的國産化不能和日本企業競争,即便中(zhōng)國企業進入高純矽溶膠領域也難以和扶桑化學競争。國産企業市場份額很小(xiǎo),其産品也是自用爲主。

當前,全球半導體(tǐ)行業依然呈現高度景氣的周期,而且新一(yī)輪的半導體(tǐ)投資(zī)将拉開(kāi)序幕,CMP漿料作爲一(yī)種基礎耗材,需求量呈現穩步增長的趨勢,因此就未來需求而言,高純矽溶膠的需求增長呈現穩定的發展趨勢,也就是高純矽溶膠行業具有高度的确定性。

93%的高純矽溶膠用于晶圓抛光和CMP漿料,因此其市場需求主要是由于半導體(tǐ)行業擴張所帶動的。考慮到CMP漿料主要制造商(shāng)如Cabot Microelectronics,DuPont,Fujimi Incorporated,Merck KGaA (Versum Materials)均爲美日企業,中(zhōng)國本地企業發展高純矽溶膠可謂困難重重,目前依然和國外(wài)企業存在較大(dà)差距,但是考慮到中(zhōng)國半導體(tǐ)的發展趨勢,中(zhōng)國制造商(shāng)依然有望在未來的全球的市場占據一(yī)席之地,但是取代國外(wài)廠商(shāng)的目标不切實際。

目前,全球矽溶膠供需基本處于平衡狀态,由于下(xià)遊需求并不強勁,全球矽溶膠市場呈現溫和增長。此外(wài),随着市場的整合,無序市場正在慢(màn)慢(màn)整合,小(xiǎo)型玩家漸漸的被市場所淘汰。而高端的高純矽溶膠市場呈現産銷兩旺的趨勢,疫情給中(zhōng)低端市場的矽溶膠帶來了實質性影響,導緻了其産量下(xià)滑,但是高純矽溶膠受到疫情的影響較小(xiǎo)。

高純矽溶膠産業鏈分(fēn)析

矽溶膠的用途很廣,從國防航天到普通老百姓生(shēng)活中(zhōng)都需求目前随着高科技矽晶片産品不斷引進擴大(dà)生(shēng)産,矽溶膠在電子元器件上的需求量不斷擴大(dà),矽溶膠在矽晶片生(shēng)産中(zhōng)作爲研磨清洗劑是目前市場需求很大(dà)的一(yī)個品種。

在低端市場上,矽溶膠的市場波動已經不大(dà),下(xià)遊客戶選擇性多,追求價格和性價比依然将是市場的常态。而中(zhōng)高端市場上,下(xià)遊客戶更加在乎的是産品本身的質量而非價格,随着市場的發展,産品和價格的差異化不僅體(tǐ)現在企業的産品上而且體(tǐ)現在供應鏈上。以CMP爲例,化學機械抛光(CMP)是集成電路制造過程中(zhōng)實現晶圓表面平坦化的關鍵工(gōng)藝。而CMP抛光液則是CMP制程中(zhōng)的必備溶劑。CMP 工(gōng)藝通過表面化學作用和機械研磨的技術結合來實現晶圓表面微米/納米級不同材料的去(qù)除并平坦化,使得下(xià)一(yī)步的光刻工(gōng)藝得以進行。能夠突破的企業不僅能夠得到市場的高度認可,而且也能夠得到社會資(zī)金的廣泛認可。由于而CMP抛光液屬于産業的高端,高純矽溶膠的研究受到廣泛的關注。

 

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